字体:大 中 小
护眼
关灯
上一章
目录
下一页
第423章 先准备,万一用得上 (第1/4页)
因为时间的关系,江夏方面唐老板他们没再留温良吃午饭。 合作备忘签署完毕之后,唐老板他们特地礼送温良一行离开市府大院。 这桩皆大欢喜的合作虽然在宣传上会很低调,不过还是留下了不少相关影像资料。 如温良一行与唐老板他们的握手道别的场面。 稍晚些时候,温良出现在了光谷·星空半导体产业园区。 一眼望去,清一色的简约风格。 没有已经竣工的高楼。 正在建设中的最高楼设计高度也仅仅只有12层,绝大多数楼体的高度在6层及以下。 得益于光谷地块早已平整的土地,以及充裕的资金,日以继夜的不停施工,和需要根据设备进驻微调的内部装修,试验产线基建工程只花了不到6个月。 在既定时间内提前完成,有华虹华力微建设更高级别产线成熟经验的一定功劳。 田文凯、赵智二人热情的为温良介绍着已投入使用的各栋楼体其主要用途。 他们对温良的作风有一定了解,还以为盼不到温良视察工作了。 毕竟温良来到江夏已经是第八天了。 时间挺长的了。 此前满打满算在京城也才待了10天。 赵智很快提到了主体工作进展:“目前试验生产线的设备进驻有序开展,各方面进度很理想,最新初步预计,试验产线年内可以初步进入试生产阶段。” “合资共建生产线的基建工作也很顺利,会上数据是最保守估计。”田文凯也跟着说到了主体工作进展。 温良微微点头,不置可否。 他清楚,也亏眼下是成熟的DUV光刻生产工艺,设备进驻与调试时间还算理想。 现在公开资料表示,EUV光刻生产工艺的设备进驻与调试时间长达恐怖的一年起步。 而且一年多时间只是完成调试能试生产,产能爬坡要多久,只有天知道。 因为目前全球都没有稳定的EUV光刻工艺。 根据后世经验,EUV光刻工艺投入正式使用最早最早要等到2019年,从这个角度来说,星空半导体有时间有可能追赶上去。 因为星空半导体背后有‘财大气粗’的博浪,博浪有温良这个对高新科技自主化有十分疯狂追求,不计成本投入的总经理。 毕竟……EUV是个有充分理论验证支撑的应用科技攀爬。 没有从零开始一说。 要解决的问题是材料上的全新尝试、组件上的自主化、同种理论上的优化……反正,应用科技领域完全独立必不可能,专利的交叉问题多得吓死人。 为了应对无可避免的知识产权官司,林鸿早已牵头展开了博浪全球法务体系,投入甚大。 回头说EUV这个东西,最早开展相关研究的时间可以追溯到80年代,是小日那边的NTT,之后是尼康和日立方面在91年展开研发。 而在更晚一些的97年,英特尔感觉到了挑战193nm光源的的巨大难度,决定合作愚公移山,于是说服了当局,以公司形式发起了EUV LLC这样一个合作组织。 由英特尔和美能源牵头,集合了摩托、AMD、劳伦斯利弗莫尔、劳伦斯伯克利桑迪亚三个实验室,投资两亿美元集合几百位顶级科学家,从理论上验证EUV可能存在的技术问题。 当时,英特尔力邀ASML和尼康加入EUV LLC,但被当局阻扰,因为当局不乐意其它地区分享前沿科技。 最终结果是尼康……这个阿美小三的公司被排除在外,ASML做了一堆贡献许诺后被允许加入,另一家例外非美公司是德公司英飞凌。 EUV LLC在97年到03年六年间发表了几百篇论文,验证了EUV光刻机的可行性,然后解散。
上一章
目录
下一页